[发明专利]具量子点的画素基板及其制作方法有效
申请号: | 201910904105.2 | 申请日: | 2019-09-24 |
公开(公告)号: | CN112634766B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 许铭案;林文福;谢东宏;林佳慧 | 申请(专利权)人: | 恒煦电子材料国际有限公司 |
主分类号: | G09F9/33 | 分类号: | G09F9/33;H10K59/50 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 周鹤 |
地址: | 中国香港租庇利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种具量子点的画素基板及其制作方法,其中该具量子点的画素基板包含:一透明基板;一黑矩阵层,形成于该透明基板的表面,并定义数个像素空间;数个量子点胶层,个别形成于该数个像素空间中;及其中,该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成,且构成倒梯形或漏斗形结构,而使该些像素空间构成一正梯形或倒漏斗形的碗状结构。据此可简化量子点所构成的像素基板的制程与其结构。 | ||
搜索关键词: | 量子 画素基板 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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