[发明专利]一种封装基板的制作方法在审
申请号: | 201910909371.4 | 申请日: | 2019-09-25 |
公开(公告)号: | CN110621116A | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 叶新智;王健;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 | 申请(专利权)人: | 江苏上达电子有限公司 |
主分类号: | H05K1/03 | 分类号: | H05K1/03;H05K3/06;H05K3/28 |
代理公司: | 32220 徐州市三联专利事务所 | 代理人: | 张帅 |
地址: | 221000 江苏省徐州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种封装基板的制作方法,属于线路板技术领域。在金属层的一面上,通过印刷等方法,形成一层绝缘树脂层增强金属层;在金属层上进行涂布光刻胶层,然后进行曝光、显影、蚀刻、退膜等一系列加工,去除多余的金属层,形成所需线路;然后,在线路的除器件区域及连接区域外的其他位置上形成一层阻焊剂层。相较于以往的封装基板的制造,所使用的基材发生了改变,使用绝缘树脂代替,降低了基材的厚度,减小金属层的宽幅,从而减小产品的金属边框,实现线路板轻薄化的要求;直接在金属层上设置绝缘树脂然后进行加工形成线路,使用薄的金属层,薄的金属层更利于线路的形成,加工线宽线距更小的线路,所以能实现线路的精细化。 | ||
搜索关键词: | 金属层 线路板 封装基板 绝缘树脂 基材 减小 蚀刻 增强金属层 光刻胶层 金属边框 连接区域 器件区域 阻焊剂层 层绝缘 加工线 精细化 轻薄化 树脂层 宽幅 宽线 去除 退膜 显影 加工 曝光 印刷 制作 制造 | ||
【主权项】:
1.一种封装基板的制作方法,其特征在于,包括步骤:/n步骤A:准备基材金属层(1);/n步骤B:在金属层(1)的一面上,设置一层绝缘树脂(2);/n步骤C:在金属层(1)上进行光刻胶涂布,生成一层光刻胶薄膜(3);/n步骤D:通过曝光干板的部分遮挡,对光刻胶薄膜(3)进行照射曝光,改变光照部位的光刻胶性质;/n步骤E:将曝光后的产品浸泡药液中,对曝光后的光刻胶薄膜(3)进行显影,除去曝光部位的光刻胶,留下所需图案部位光刻胶图案;/n步骤F:对显影后的产品进行处理,蚀刻去掉无光刻胶覆盖部位的金属层(1);/n步骤G:将产品浸泡在药液中,使残留的光刻胶薄膜(3)膨胀剥离,得到所需的线路图案;/n步骤H:在金属层(1)上设置一层阻焊剂层(4);/n步骤I:在电子器件搭载区域安装IC等电子器件,将安装了IC等器件的产品从卷带上冲切,得到单个的COF产品。/n
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