[发明专利]光控可降解聚合物支架及其制备方法在审
申请号: | 201910909427.6 | 申请日: | 2019-09-25 |
公开(公告)号: | CN110496250A | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 杨建安;郑玉峰 | 申请(专利权)人: | 杨建安 |
主分类号: | A61L31/06 | 分类号: | A61L31/06;A61L31/08;A61L31/14;A61L31/16 |
代理公司: | 44275 深圳市博锐专利事务所 | 代理人: | 任芹玉<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 518000 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了光控可降解聚合物支架及其制备方法,光控可降解聚合物支架,其表面具有负载吲哚菁绿的ZIF‑8晶体层。在PLGA支架的表面构建光热涂层(即包裹光敏剂吲哚菁绿的ZIF‑8晶体层),PLGA支架完成辅助治疗的使命后,在808nm近红外光照射下通过光热涂层的光热效应,升高光热涂层局部温度到其玻璃化转变温度以上,加快PLGA支架的降解速率,减少其滞留时间,使其与机体组织愈合周期相匹配,减少支架长期滞留所引起的并发症,即医护人员可利用通过光热效应调控PLGA支架的降解速率;ZIF‑8晶体与吲哚菁绿(即ICG),均具有良好的组织相容性,不会对机体造成威胁。 | ||
搜索关键词: | 支架 光热 吲哚 可降解聚合物 光热效应 晶体层 光控 降解 滞留 玻璃化转变 组织相容性 表面构建 辅助治疗 机体组织 近红外光 愈合周期 光敏剂 并发症 制备 匹配 照射 升高 医护 调控 威胁 | ||
【主权项】:
1.光控可降解聚合物支架,其特征在于:其表面具有负载吲哚菁绿的ZIF-8晶体层。/n
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