[发明专利]一种铟柱回熔缩球系统及方法

摘要

本发明提出了一种铟柱回熔缩球系统和方法，用以在芯片回熔缩球工艺过程中，避免多次夹取芯片造成芯片损伤，提高产品成品率。所述铟柱回熔缩球系统，包括：清洗工艺系统，包括：第一夹具，用于承载待处理器件；第二夹具，用于固定第一夹具；机械臂，用于在控制电路的控制下，带动第一夹具在第一清洗槽的洗液或者第二清洗槽的洗液中上下晃动；风干工艺系统，包括：气泵，用于在开启后，将待处理器件吸附于第一夹具上；氮气喷枪，用于风干待处理器件表面；回熔工艺系统，包括：恒温回熔加热台，用于加热回熔试剂对待处理器件进行铟柱起球；恒温过渡加热台，用于暂存起球后的待处理器件。

主权项

1.一种铟柱回熔缩球系统，其特征在于，包括清洗工艺系统、风干工艺系统和回熔工艺系统，其中，所述清洗工艺系统，包括机械臂及其控制电路、第一夹具、第二夹具、第一清洗槽和第二清洗槽，所述第二夹具固定于所述机械臂上，所述第一清洗槽中和所述第二清洗槽中储存有不同的洗液；所述风干工艺系统包括气泵和氮气喷枪，所述气泵通过气泵接口与所述第一夹具连接；所述回熔工艺系统包括恒温回熔加热台和恒温过渡加热台，其中：/n所述第一夹具，用于承载待处理器件；/n所述第二夹具，用于固定所述第一夹具；/n所述机械臂，用于在所述控制电路的控制下，带动所述第一夹具在所述第一清洗槽的洗液或者第二清洗槽的洗液中上下晃动；/n所述气泵，用于在开启后，将所述待处理器件吸附于所述第一夹具上；/n所述氮气喷枪，用于风干待处理器件表面；/n所述恒温回熔加热台，用于加热回熔试剂对待处理器件进行铟柱起球；/n所述恒温过渡加热台，用于暂存起球后的待处理器件。/n