[发明专利]异物检测装置、曝光装置以及物品的制造方法有效
申请号: | 201910951717.7 | 申请日: | 2019-10-09 |
公开(公告)号: | CN111045291B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 中野裕己 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F7/20;G01N21/94 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 许海兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种异物检测装置、曝光装置以及物品的制造方法。该异物检测装置检测透明部件上的异物,该异物检测装置的特征在于,具有:照射部,对透明部件斜着照射光;受光部,检测来自被照射部照射了光的透明部件上的异物的散射光;以及处理部,进行检测异物的处理,该处理包含:第一模式,将照射部与受光部的相对位置设为照射部与受光部之间的距离为第一距离的第一状态,基于在第一状态下由受光部检测的散射光的分布来检测异物;以及第二模式,将照射部与受光部的相对位置设为照射部与受光部之间的距离为比第一距离长的第二距离的第二状态,基于在第二状态下由受光部检测的散射光的分布来检测异物。 | ||
搜索关键词: | 异物 检测 装置 曝光 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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