[发明专利]偏振光片及偏振光片的制造方法有效
申请号: | 201910962137.8 | 申请日: | 2019-10-11 |
公开(公告)号: | CN111103645B | 公开(公告)日: | 2023-08-29 |
发明(设计)人: | 涉谷和幸;榊原重司;菅原利明;松野雄介;高田昭夫 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B1/14;G02B1/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;闫小龙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 【课题】提供具有优异的光学特性及耐久性的偏振光片及偏振光片的制造方法。【解决方案】偏振光片具备:相对于使用波段的光透明的透明基板(11);以比使用波段的光的波长更短的间距排列在透明基板上并沿既定方向延伸的依次具有反射层(12)、第1电介质层(13A)、吸收层(13B)、和第2电介质层(13C)的格子状凸部;在格子状凸部的表面及格子状凸部间的底面部的表面不连续地形成且由电介质构成的电介质部(14);以及在电介质部(14)的表面形成且具有憎水性的憎水部(15)。 | ||
搜索关键词: | 偏振光 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迪睿合株式会社,未经迪睿合株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910962137.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。