[发明专利]偏振光片及偏振光片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201910962137.8 申请日: 2019-10-11
公开(公告)号: CN111103645B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 涉谷和幸;榊原重司;菅原利明;松野雄介;高田昭夫 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/14;G02B1/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 何欣亭;闫小龙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 【课题】提供具有优异的光学特性及耐久性的偏振光片及偏振光片的制造方法。【解决方案】偏振光片具备:相对于使用波段的光透明的透明基板(11);以比使用波段的光的波长更短的间距排列在透明基板上并沿既定方向延伸的依次具有反射层(12)、第1电介质层(13A)、吸收层(13B)、和第2电介质层(13C)的格子状凸部;在格子状凸部的表面及格子状凸部间的底面部的表面不连续地形成且由电介质构成的电介质部(14);以及在电介质部(14)的表面形成且具有憎水性的憎水部(15)。
搜索关键词: 偏振光 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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