[发明专利]一种研磨头的保护罩有效
| 申请号： | 201910964574.3 | 申请日： | 2019-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN110732946B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 王力;曹佩珊;张勇;温川江 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | B24B21/18 | 分类号： | B24B21/18;B24B55/04 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种研磨头的保护罩，用于防止研磨头上的杂质掉落，研磨头包括一圆盘形的主体，主体上设有一连接件，保护罩自上而下套设于主体上；保护罩包括：一第一保护罩，覆盖于主体的顶面并至少部分覆盖于主体的周向，第一保护罩覆盖于主体的顶面部分形成一承漏面，用于承接杂质；一第二保护罩，为形成于承漏面的周向的一环形凸起，环形凸起具有一第一预设高度，用于防止承漏面上的杂质洒出。本发明技术方案的有益效果在于：提供一种研磨头的保护罩，可以防止研磨头重组、研磨头自身磨损、机台磨损等原因产生的杂质掉落在研磨垫上，减少晶圆的刮伤，从而提高晶圆的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 护罩 | ||
【主权项】：
1.一种研磨头的保护罩，用于防止所述研磨头上的杂质掉落，所述研磨头包括一圆盘形的主体，所述主体上设有一连接件，其特征在于，所述保护罩自上而下套设于所述主体上；所述保护罩包括：/n一第一保护罩，覆盖于所述主体的顶面并至少部分覆盖于所述主体的周向，所述第一保护罩覆盖于所述主体的顶面部分形成一承漏面，用于承接所述杂质；/n一第二保护罩，为形成于所述承漏面的周向的一环形凸起，所述环形凸起具有一第一预设高度，用于防止所述承漏面上的杂质洒出。/n
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