[发明专利]蚀刻剂和用于使用该蚀刻剂制造显示装置的方法在审
申请号: | 201910964728.9 | 申请日: | 2019-10-11 |
公开(公告)号: | CN111041491A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | 朴种熙;南基龙;金真锡;金基泰;李原昊;尹暎晋;朴英哲 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司;东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C23F1/44 | 分类号: | C23F1/44;H01L27/32 |
代理公司: | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人: | 冯志云;李英艳 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及蚀刻剂和用于使用该蚀刻剂制造显示装置的方法。蚀刻剂包括大约8wt%至大约12wt%的硝酸、大约3wt%至大约8wt%的烷基磺酸、大约7wt%至大约12wt%的硫酸盐、大约40wt%至大约55wt%的有机酸、大约0.5wt%至大约5wt%的有机酸盐和余量的水。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻 用于 使用 制造 显示装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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