[发明专利]一种磁体的表面处理方法、磁体、系统及其应用有效
| 申请号： | 201910988375.6 | 申请日： | 2019-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN110767440B | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 江文明;余志辉 | 申请（专利权）人： | 上海史笛威磁性材料有限公司 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 201600 上海市松江*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种磁体的表面处理方法、磁体、系统及其应用，S1：对磁体材料进行粗加工，形成一磁体本体，且所述磁体本体的厚度不超过0.4mm；S2：在磁体本体整体外表面包覆派瑞林过程；在S2中，包覆派瑞林层的过程包括步骤：S21：对磁体本体表面进行后续可进行包覆派瑞林层的表面的预处理；S22：将预处理好的磁体本体设置到沉积室，并将所述沉积室密封并抽至真空；S23：沉积室接收输入的派瑞林气体，将磁体本体在所述沉积室中均匀覆膜处理后静置预设时间内使磁体本体外表面完全包覆预设厚度的派瑞林层。本发明通过对钕铁硼磁体本体表面采用派瑞林包覆，从而降低由于钕铁硼磁体本体表面腐蚀氧化而产生减磁率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁体 表面 处理 方法 系统 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种磁体的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：/nS1：对磁体材料进行粗加工，形成一磁体本体，且所述磁体本体的厚度不超过0.4mm；/nS2：在磁体本体整体外表面包覆派瑞林过程；/n在S2中，包覆派瑞林层的过程包括步骤：/nS21：对磁体本体表面进行后续可进行包覆派瑞林层的表面的预处理；/nS22：将预处理好的磁体本体设置到沉积室，并将所述沉积室密封并抽至真空；/nS23：沉积室接收输入的派瑞林气体，将磁体本体在所述沉积室中均匀覆膜处理后静置预设时间内使磁体本体外表面完全包覆预设厚度的派瑞林层。/n
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