[发明专利]一种Co修饰的Ni在审
| 申请号： | 201910997835.1 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN110681408A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 彭正宽 | 申请（专利权）人： | 彭正宽 |
| 主分类号： | B01J27/24 | 分类号： | B01J27/24;C01B3/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 116000 辽宁省大*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及光催化产氢技术领域，且公开了一种Co修饰的Ni | ||
| 搜索关键词： | 光催化 光生载流子 掺杂改性 产氢材料 钴化物 制法 修饰 离子 掺杂 载流子 空穴 电子传输性能 电子传导性 光催化活性 氨气氛围 表面结构 表面离子 传输过程 复合效率 光生电子 离子缺陷 能带结构 配方原料 带隙能 低价态 金属性 自氧化 产氢 减小 位点 煅烧 捕获 分解 优化 | ||
【主权项】：
1.一种Co修饰的Ni
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