[发明专利]一种晶圆加工机的二次整平设备在审
申请号: | 201910998826.4 | 申请日: | 2019-10-21 |
公开(公告)号: | CN110648951A | 公开(公告)日: | 2020-01-03 |
发明(设计)人: | 唐涛 | 申请(专利权)人: | 唐涛 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518033 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种晶圆加工机的二次整平设备,其结构包括机体、控制面板、升降气缸、整平机构,控制面板安装于机体正面,升降气缸竖直安装于机体上端并且采用机械连接,整平机构水平安装于机体上端并且后端与升降气缸采用机械连接;整平机构包括底架、旋转结构、晶圆放置结构、压平板、活动架、导杆,底架套设于旋转结构外侧上端,晶圆放置结构设有4个并且均匀分布于旋转结构上端,本发明在旋转结构与压平板之间设置了晶圆放置结构,使其在下压整平前对晶圆表面及放置槽内侧的碎粒等杂质进行清理,防止在压下时碎粒接触,造成晶圆表面的凹陷,提高了晶圆的平整度,从而提高了整体的质量。 | ||
搜索关键词: | 旋转结构 上端 晶圆 放置结构 升降气缸 整平机构 机械连接 晶圆表面 控制面板 压平板 底架 碎粒 机体正面 竖直安装 水平安装 整平设备 放置槽 活动架 加工机 平整度 凹陷 导杆 压下 整平 种晶 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆加工机的二次整平设备,其结构包括机体(1)、控制面板(2)、升降气缸(3)、整平机构(4),所述控制面板(2)安装于机体(1)正面,所述升降气缸(3)竖直安装于机体(1)上端并且采用机械连接,所述整平机构(4)水平安装于机体(1)上端;其特征在于:/n所述整平机构(4)包括底架(41)、旋转结构(42)、晶圆放置结构(43)、压平板(44)、活动架(45)、导杆(46),所述底架(41)套设于旋转结构(42)外侧上端,所述晶圆放置结构(43)设有多个并且均匀分布于旋转结构(42)上端,所述压平板(44)竖直安装于活动架(45)下端,所述活动架(45)水平设于底架(41)上方,所述导杆(46)垂直安装于底架(41)上端,所述活动架(45)安装于升降气缸(3)前端。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于唐涛,未经唐涛许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910998826.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:上下料装置及镭射二极体模组焊线机
- 下一篇:晶圆传送密封保护装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造