[发明专利]一种晶圆加工机的二次整平设备在审

专利信息
申请号: 201910998826.4 申请日: 2019-10-21
公开(公告)号: CN110648951A 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 唐涛 申请(专利权)人: 唐涛
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518033 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种晶圆加工机的二次整平设备,其结构包括机体、控制面板、升降气缸、整平机构,控制面板安装于机体正面,升降气缸竖直安装于机体上端并且采用机械连接,整平机构水平安装于机体上端并且后端与升降气缸采用机械连接;整平机构包括底架、旋转结构、晶圆放置结构、压平板、活动架、导杆,底架套设于旋转结构外侧上端,晶圆放置结构设有4个并且均匀分布于旋转结构上端,本发明在旋转结构与压平板之间设置了晶圆放置结构,使其在下压整平前对晶圆表面及放置槽内侧的碎粒等杂质进行清理,防止在压下时碎粒接触,造成晶圆表面的凹陷,提高了晶圆的平整度,从而提高了整体的质量。
搜索关键词: 旋转结构 上端 晶圆 放置结构 升降气缸 整平机构 机械连接 晶圆表面 控制面板 压平板 底架 碎粒 机体正面 竖直安装 水平安装 整平设备 放置槽 活动架 加工机 平整度 凹陷 导杆 压下 整平 种晶
【主权项】:
1.一种晶圆加工机的二次整平设备,其结构包括机体(1)、控制面板(2)、升降气缸(3)、整平机构(4),所述控制面板(2)安装于机体(1)正面,所述升降气缸(3)竖直安装于机体(1)上端并且采用机械连接,所述整平机构(4)水平安装于机体(1)上端;其特征在于:/n所述整平机构(4)包括底架(41)、旋转结构(42)、晶圆放置结构(43)、压平板(44)、活动架(45)、导杆(46),所述底架(41)套设于旋转结构(42)外侧上端,所述晶圆放置结构(43)设有多个并且均匀分布于旋转结构(42)上端,所述压平板(44)竖直安装于活动架(45)下端,所述活动架(45)水平设于底架(41)上方,所述导杆(46)垂直安装于底架(41)上端,所述活动架(45)安装于升降气缸(3)前端。/n
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