[发明专利]步进曝光机的控制设备与控制方法在审
| 申请号： | 201910999042.3 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN112764316A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 林志明 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 李芳华 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种步进曝光机的控制设备与控制方法。步进曝光机的控制设备包括输入装置、生成装置及处理装置。输入装置用以输入多个样本显影图。这些样本显影图由多个样本焦距值所获得。生成装置用以通过深度学习算法，产生对应于多个生成焦距值的多个生成分类。处理装置用以根据这些生成分类，分析在线显影图的估测焦距值。 | ||
| 搜索关键词： | 步进 曝光 控制 设备 方法 | ||
【主权项】：
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