[发明专利]脱模膜有效
| 申请号： | 201911003268.X | 申请日： | 2014-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN110602896B | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 中尾洋祐;土谷雅弘;宇都航平 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/28 | 分类号： | H05K3/28;B32B27/32;B32B27/36;B32B27/08;B32B43/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造、且能够在保持脱模性的状态下抑制皱褶的产生。本发明为一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造，所述脱模膜的表面和背面被粗面化，所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且20μm以下，并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上(其中，不包括所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且5μm以下、并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上且36μm以下的情况)。 | ||
| 搜索关键词： | 脱模 | ||
【主权项】：
1.一种脱模膜，其特征在于，适合于柔性电路基板的制造，/n所述脱模膜的表面和背面被粗面化，/n所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且20μm以下，并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上，/n其中，不包括所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且5μm以下、并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上且36μm以下的情况，/n所述脱模膜包含具有2个脱模层和中间层的多层膜，所述2个脱模层分别构成表面和背面。/n
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