[发明专利]一种CVD金刚石高真空光学窗装置在审

专利信息
申请号: 201911014788.0 申请日: 2019-10-23
公开(公告)号: CN112782821A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 赵芬霞;蒋荣方;刘宏明;王骏 申请(专利权)人: 湖州中芯半导体科技有限公司
主分类号: G02B7/00 分类号: G02B7/00;C30B29/04;C30B25/00
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 刘晓明
地址: 313000 浙江省湖州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种CVD金刚石高真空光学窗装置,包括底座、连接件、压紧件、压紧组件、透光组件、金刚石光窗和真空设备固定孔,所述连接件设于底座上,所述压紧件设于连接件远离底座的一端,所述压紧组件一端设于压紧件上,所述压紧组件另一端设于底座上,所述透光组件一端设于压紧件上,所述透光组件另一端设于底座上,所述金刚石光窗设于透光组件内,所述真空设备固定孔贯穿设于底座上,所述金刚石光窗为含有铅元素和磷元素的金刚石光窗,所述金刚石光窗通过CVD化学气相沉积法制得。本发明属于真空设备技术领域,具体是指一种莫氏硬度高,结构强度高,防电磁辐射,可观察等离子体辉光的高真空光学窗装置。
搜索关键词: 一种 cvd 金刚石 真空 光学 装置
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