[发明专利]一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法在审
申请号: | 201911038129.0 | 申请日: | 2019-10-29 |
公开(公告)号: | CN110615447A | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 顾婷;潘美华;徐军;王琰琛 | 申请(专利权)人: | 浙江森田新材料有限公司 |
主分类号: | C01C1/16 | 分类号: | C01C1/16 |
代理公司: | 33311 杭州新泽知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 贾莲莲 |
地址: | 321200 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法,包括以下制备步骤:(1)高纯氨的制备;(2)高纯水的制备;(3)电子级氢氟酸的制备;(4)将步骤(1)制备的高纯氨通入装有步骤(3)制得的电子级氢氟酸溶液的合成槽中,进行气液相一步反应生成氟化铵,反应压力为80‑100kPa,反应温度为15‑50℃,冷却后进入氟化铵合成槽,再加入步骤(2)制备的高纯水,自循环20‑24h,得到氟化铵成品。本发明以氟化氢和氨为原料,气液相一步合成,经过净化处理的气态氨和液态氟化氢在控制流速下同时通入反应容器中,借助对反应物pH值的控制使之最终生成氟化铵,生产周期短,排放的氟化氢和氨气的废气少,成品氟化铵的铜离子杂质含量低于10ppt。 | ||
搜索关键词: | 制备 氟化铵 电子级氢氟酸 氟化氢 高纯氨 高纯水 合成槽 气液相 氨气 蚀刻 生产周期 液态氟化氢 反应压力 净化处理 一步反应 一步合成 反应物 气态氨 铜离子 自循环 废气 冷却 清洗 排放 | ||
【主权项】:
1.一种蚀刻及清洗级氟化铵的制备方法,其特征在于:包括以下制备步骤:/n(1)高纯氨的制备:将液氨进行气化,进入氨气过滤器,除去金属与非金属杂质,得到纯化气;/n(2)高纯水的制备:自来水先通过阴阳离子交换柱除去大部分阴阳离子,然后经过微孔过滤器过滤得到普通去离子水,去离子水再采用多级反渗透,电渗析膜处理进一步纯化,最后配以杀菌和超微过滤得到高纯水;/n(3)电子级氢氟酸的制备:将高纯氟化氢气体和高纯水一起进入吸收塔中,在吸收塔中氟化氢气体与高纯水充分接触吸收,制成高纯氢氟酸粗品,粗品经超净过滤得电子级氢氟酸;/n(4)将步骤(1)制备的高纯氨通入装有步骤(3)制得的电子级氢氟酸溶液的合成槽中,进行气液相一步反应生成氟化铵,反应压力为80-100kPa,反应温度为15-50℃,冷却后进入氟化铵合成槽,再加入步骤(2)制备的高纯水,自循环20-24h,得到氟化铵成品。/n
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