[发明专利]一种关键尺寸值补正方法以及光刻装置在审
| 申请号： | 201911038700.9 | 申请日： | 2019-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN110837212A | 公开（公告）日： | 2020-02-25 |
| 发明（设计）人： | 刘汉辰 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 李新干 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请提供一种关键尺寸值补正方法，关键尺寸值补正方法用于对至少一个目标基板进行光刻，每一目标基板均包括多个第一子区域，其包括以下步骤：光刻基准片制作步骤，基于初始离焦值对测试基板进行光刻，形成光刻基准片，测试基板包括多个第二子区域，第二子区域与第一子区域一一对应；关键尺寸值均一性分析步骤，对光刻基准片上的每一第二子区域进行关键尺寸值测量，以得到每一第二子区域的关键尺寸值，并基于关键尺寸值计算光刻基准片的均一性值；离焦值调整步骤，当均一性值不满足预设条件时，则调整第二子区域的离焦值；光刻步骤，利用调整后的第二子区域的离焦值，对目标基板对应的第一子区域进行光刻。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 关键 尺寸 补正 方法 以及 光刻 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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