[发明专利]一种宽角度内反保偏膜元器件的设计及其制备在审

专利信息
申请号: 201911041523.X 申请日: 2019-10-30
公开(公告)号: CN110716251A 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 黄文华;马新建;吴先云;廖洪平;陈秋华;张星;陈伟 申请(专利权)人: 福建福晶科技股份有限公司
主分类号: G02B5/04 分类号: G02B5/04;G02B27/28;G02B1/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350003 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种(1260‑1750)nm宽角度内反保偏膜元器件的设计及其制备。本发明的目的在于提供一种宽角度入射时,在光纤通信全波段(1260‑1750)nm范围内实现大于98%的内反射率,同时保持出入射光偏振位相差不变的光学元器件;它包括一个等腰直角棱镜(1)、出入射面增透膜(2)、内反保偏膜(3)。本发明具有简易的结构设计、易于制备、使用方便等优势。
搜索关键词: 保偏膜 制备 等腰直角棱镜 光学元器件 光纤通信 射光偏振 反射率 全波段 位相差 增透膜 入射 元器件 简易
【主权项】:
1.一种(1260-1750)nm宽角度内反保偏膜元器件的设计及其制备,其特征在于:它由一个等腰直角棱镜(1)、出入射面增透膜(2)、内反保偏膜(3)组成;其特征在于:所述内反保偏膜(3)是由Ag、SiO2、Ta2O5三种不同膜料采用不同膜层厚度组合而成,所述内反保偏膜由5层薄膜组成,该5层薄膜的膜层从空气到等腰直角棱镜(1)依次为:第1层,SiO2膜层(11)、第2层,Ag膜层(12)、第3层,SiO2膜层(11)、第4层,Ta2O5膜层(13)、第5层,SiO2膜层(11)。/n
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