[发明专利]一种掩膜版框架在审
| 申请号： | 201911047145.6 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN110592529A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 姜正文;李文星 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 11659 北京远智汇知识产权代理有限公司 | 代理人： | 林波 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于OLED制备技术领域，公开了一种掩膜版框架。该掩膜版框架包括框架本体，框架本体包括多根首尾依次相连的边框，边框上设置有弧形的矫正结构，矫正结构沿所在的边框的长度方向延伸设置，矫正结构能够为框架本体提供预应力形变以矫正掩膜版形变，从而改善修正掩膜版上已经出现的内缩或外扩的变形现象，以提高像素位置精度，减少掩膜版报废数量，节约成本；还能够通过矫正结构调节预防掩膜版形变，保证产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 矫正 边框 框架本体 形变 长度方向延伸 制备技术领域 变形现象 结构调节 像素位置 依次相连 内缩 外扩 首尾 报废 修正 节约 预防 保证 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版框架，包括框架本体(1)，所述框架本体(1)包括多根首尾依次相连的边框，其特征在于，所述边框上设置有弧形的矫正结构，所述矫正结构沿所在的所述边框的长度方向延伸设置，所述矫正结构被配置为能够为所述框架本体(1)提供预应力形变以矫正掩膜版形变。/n
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