[发明专利]一种导流均流装置有效
| 申请号： | 201911056713.9 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN112748642B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 张瑞平;王伟伟;杨玉杰;龚辉;王桂昇 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻设备技术领域，公开一种导流均流装置。所述导流均流装置包括均流组件和导流组件，均流组件包括罩壳，罩壳安装于风机末端空间壁面上，导流组件设置于罩壳内，且罩壳的表面上开设有多个均流孔。风机出风从风机末端空间壁面流入罩壳内，并在导流组件的导流下，从多个均流孔中流出，使得该导流均流装置实现导流和均流的双重作用，保持风机末端静压腔压力和温度均匀，提高光路的均匀性，且提高换热效率，保护光刻设备中部件不受损坏，延长部件的使用寿命。本发明中的导流组件包括导流板，导流板角度可调地设置于风机末端空间壁面上，可以根据不同的工况调整导流板的角度，不需重新设计导流均流装置，提高了其适用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 导流 装置 | ||
【主权项】：
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