[发明专利]一种发射药表面残留硫脱除方法有效
| 申请号： | 201911058680.1 | 申请日： | 2019-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN110790618B | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 肖忠良;李世影;丁亚军;梁昊;赵先正;陶忠安 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C06B21/00 | 分类号： | C06B21/00 |
| 代理公司： | 重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙) 50230 | 代理人： | 陈炳萍 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种发射药表面残留硫脱除方法，涉及发射药技术领域，其技术方案要点：具体包括以下步骤：步骤1)：采用超声清洗机对某表面含硫发射药进行超声清洗，脱除发射药表面残留的水溶性硫化物；步骤2)：脱除发射药表面残留的单质硫，将步骤1)中脱除表面残留的水溶性硫化物的发射药和500ml反应试剂溶液加入带有搅拌装置的三口烧瓶内进行搅拌反应，并控制搅拌反应的温度和时间；步骤3)：对经过步骤1)和步骤2)处理的发射药进行硫元素含量检测。本技术方案利用简单的物理化学方法，能够实现发射药表面残留硫的脱除，从而大幅度降低发射药中硫元素的含量，有效地抑制发射药在射击过程中产生的刺激性气味。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 发射 表面 残留 脱除 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学，未经南京理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911058680.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种厨具灶头
- 下一篇：航天耐磨电缆绝缘层加工用混料设备
