[发明专利]转移装置及其清洁方法有效
| 申请号： | 201911068959.8 | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN111332734B | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 金大镇 | 申请（专利权）人： | 夏泰鑫半导体（青岛）有限公司 |
| 主分类号： | B65G45/10 | 分类号： | B65G45/10;B65G43/08 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 彭辉剑;龚慧惠 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种转移装置，用于在半导体制造过程中将半导体晶片转移到蚀刻和其他制造过程中的装置中，并保持真空环境的清洁度。该转移装置包括存储晶片的转移室，从转移室抽取颗粒的真空系统以及用于温度控制的热电装置。真空系统包括抽气管，热电装置包括用于冷却转移室的冷却装置，以及监测装置。所述监测装置用于检测转移室中的颗粒浓度。冷却装置和真空系统设于转移室下方，所述冷却装置包括设置在抽气管上的帕尔帖元件，以冷却抽气管，从而使烟雾和颗粒朝着转移室下部移动。本申请还提供一种清洁方法，用于清洁所述转移装置中的转移室。 | ||
| 搜索关键词： | 转移 装置 及其 清洁 方法 | ||
【主权项】：
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