[发明专利]掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置在审
| 申请号： | 201911069137.1 | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN111534786A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 安鼎铉;文在皙;李丞赈 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 李盛泉;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一实施例公开一种掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置，所述掩膜框架组件包括：掩膜，配备有用于沉积的图案区域；以及框架，以层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构来支撑掩膜。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 组件 以及 采用 沉积 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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