[发明专利]气相生长装置有效

专利信息
申请号: 201911079497.X 申请日: 2019-11-07
公开(公告)号: CN111172517B 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 伊藤英树 申请(专利权)人: 纽富来科技股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52;H01L21/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 牛玉婷
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 气相生长装置具备:n个反应室,n为2以上的整数;主气体供给通路,对n个反应室供给第一气体与第二气体的混合气体;n条副气体供给通路,从主气体供给通路分支,与反应室分别连接,包括1条第一副气体供给通路和(n-1)条第二副气体供给通路;第一压力计,测定主气体供给通路中的压力;1个第一流量控制器,设置于第一副气体供给通路;(n-1)个第二流量控制器,分别设置于第二副气体供给通路;第一控制电路,基于第一压力计的测定结果,对第一流量控制器指示第一流量值;以及第二控制电路,计算由第一流量控制器测定的流量值与由第二流量控制器测定的流量值的总和的n分之一即第二流量值,对第二流量控制器分别指示第二流量值。
搜索关键词: 相生 装置
【主权项】:
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