[发明专利]一种抛光用无蜡垫及生产方法在审
| 申请号： | 201911081581.5 | 申请日： | 2019-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN110744443A | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 李加海;谭鸿;李元祥;杨惠明 | 申请（专利权）人： | 安徽禾臣新材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24;C22C38/18;C22C38/02;C22C30/02;C22C33/04;C21D1/26 |
| 代理公司： | 11621 北京和联顺知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐冬冬 |
| 地址： | 238201 安徽省马鞍山市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光用无蜡垫及生产方法，包括垫片底盘、沉孔和无蜡抛光轮，垫片底盘的内部设有沉孔，沉孔内卡嵌安装无蜡抛光轮，其中无蜡垫分为单一式无蜡垫和集中式无蜡垫，单一式与集中式的区别为垫片底盘中沉孔的分布不同，及垫片底盘的组分分布工艺不同，单一式无蜡垫中沉孔容量较大，用于晶片打磨时，无蜡抛光轮与晶片的接触面积的不同，使得对于不同形状大小的晶片的打磨程度不同，垫片底盘内不同的组分分布工艺，分别提高了垫片底盘的抗拉伸性能、摩擦力性能和承热能力性能，有效避免了晶片打磨过程中出现的碎片、崩角与刮伤的问题，防止由于抛光过程中由于过热导致无蜡垫断裂损坏的问题，有效提高晶片产品的抛光合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 底盘 垫片 蜡垫 沉孔 晶片 无蜡抛光 打磨 组分分布 集中式 抛光 抗拉伸性能 抛光过程 刮伤 过热 内卡 断裂 合格率 生产 | ||
【主权项】：
1.一种抛光用无蜡垫，包括垫片底盘(1)、沉孔(2)和无蜡抛光轮(3)，其特征在于：所述垫片底盘(1)的内部设有沉孔(2)，所述沉孔(2)内卡嵌安装无蜡抛光轮(3)。/n
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