[发明专利]镀膜机离子源总装在审

专利信息
申请号: 201911085597.3 申请日: 2019-11-08
公开(公告)号: CN112786421A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 唐洪波;黄乐;孙桂红;黄国兴;祝海生 申请(专利权)人: 湘潭宏大真空技术股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;C23C14/02;C23C14/22;C23C14/34;C23C14/46
代理公司: 湖南乔熹知识产权代理事务所(普通合伙) 43262 代理人: 安曼
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了镀膜机离子源总装,包括壳体和安装在壳体上的离子源,壳体为长方体结构,壳体一面开口、具有容纳腔,离子源位于所述壳体的容纳腔内,离子源的上端和下端各设有一个安装柱,安装柱穿过壳体,离子源通过两个安装柱架设在壳体上,壳体侧面上设有安装翼,所述开口一端沿着开口一周设有密封台。本发明壳体和离子源装配成一个总装,可形成一个标准件或定制件,直接将其安装在镀膜生产线的腔室壁面,无需其它零散部件进行支撑和密封,安装和维修方便,壳体上有抽真空孔、辅助孔等功能性设置。
搜索关键词: 镀膜 离子源 总装
【主权项】:
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