[发明专利]反光结构及制备方法在审
| 申请号： | 201911100175.9 | 申请日： | 2019-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN111076108A | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 由龙;林翠盈;赵伟业 | 申请（专利权）人： | 深圳科诺桥科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F21S4/24 | 分类号： | F21S4/24;F21V7/28;H05K1/02;H05K3/00;H05K3/28;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市大鹏*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种反光结构制备方法，包括以下步骤：提供绝缘层和热熔胶，将热熔胶涂布于绝缘层的其中一面；在绝缘层的另一面形成金属反射层；提供防氧化液，在金属反射层远离绝缘层一面涂布防氧化液并固化，形成防氧化层。本发明还提供一种反光结构包括：金属反射层，用于反射光线；高透光率的防氧化层，形成于金属反射层的其中一面；绝缘层，设于金属反射层的另一面，用于使金属反射层绝缘；以及胶层，设于绝缘层远离金属反射层一面。本发明提供的反光结构及制备方法，耐弯折、反射效果好、使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 反光 结构 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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