[发明专利]一种含有CCL19重组表达基因的叶酸修饰的纳米制剂及其制备方法和用途有效

专利信息
申请号: 201911123325.8 申请日: 2019-11-16
公开(公告)号: CN111297827B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 高祥;王碧兰;刘家刚;程永忠 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: A61K9/51 分类号: A61K9/51;A61K47/34;A61K47/18;A61K47/22;A61K48/00;A61K38/19;A61P35/00
代理公司: 成都高远知识产权代理事务所(普通合伙) 51222 代理人: 李高峡;张娟
地址: 610000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种含有CCL19重组表达基因的叶酸修饰的纳米制剂,它是以CCL19的重组表达基因为活性成分,加上叶酸修饰的聚合物形成的纳米制剂。本发明还公开了前述纳米制剂的制备方法和用途。本发明含有CCL19重组表达基因的叶酸修饰的纳米制剂可以高效地将CCL19重组表达基因转入细胞,提高CCL19表达效率,治疗结肠癌的效果优良,临床应用前景良好。
搜索关键词: 一种 含有 ccl19 重组 表达 基因 叶酸 修饰 纳米 制剂 及其 制备 方法 用途
【主权项】:
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