[发明专利]光学构件及光学构件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201911146331.5 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN111221057A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 能势正章 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的课题在于提供通过改善含有SiO2作为主成分的最上层的盐水引起的溶解剥离性而不存在经时引起的对下层的分光反射率的影响、不存在与其相伴的重影、眩光的发生的、耐盐水性优异的光学构件及其制造方法。本发明的光学构件是在基板上具有电介质多层膜的光学构件,其特征在于,最上层的正下层为含有SiO2、MgF2或Al2O3中的任一者的层、或者包含这些材料的混合物含有层,并且最上层为以SiO2作为主成分、至少含有Cr或Ti中的任一种元素的金属氧化物层。
搜索关键词: 光学 构件 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达株式会社,未经柯尼卡美能达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911146331.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top