[发明专利]导电性薄膜的制造方法有效
申请号: | 201911147533.1 | 申请日: | 2019-11-21 |
公开(公告)号: | CN111210944B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 竹安智宏;鹰尾宽行;西岛仁志 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供导电性薄膜的制造方法,提供使用载体薄膜制作带金属层的导电性薄膜时,制造金属层的图案化精度良好的导电性薄膜的方法。导电性薄膜(1)的制造方法具备下述工序:准备层叠体(2)的准备工序,所述层叠体(2)具备:依次具备透明基材(5)、第1透明导电层(7)及第1金属层(8)的中间薄膜(3)、和配置于中间薄膜(3)的载体薄膜(4);及去除工序,对第1金属层(8)实施干洗处理而去除源自载体薄膜(4)的成分。 | ||
搜索关键词: | 导电性 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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