[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造装置和制造方法在审
| 申请号： | 201911161936.1 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN111434796A | 公开（公告）日： | 2020-07-21 |
| 发明（设计）人： | 铃木健太郎 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;C23C16/04;C23C16/52;C23C14/50;C23C16/458 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于在降低因颗粒、润滑剂引起的污染的同时，进一步改善基板与掩模之间的位置调整的精度的成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造装置和制造方法。成膜装置是用于隔着掩模在基板上对成膜材料进行成膜的成膜装置，包括：真空容器；基板支承部件，设在真空容器内，用于支承基板；掩模支承部件，设在真空容器内，用于支承掩模；磁悬浮载置台机构，设在真空容器内，能调整与基板支承部件的支承面平行的第1方向、与第1方向交叉且与基板支承部件的支承面平行的第2方向、和以与第1方向以及第2方向这两者交叉的第3方向为中心的旋转方向上的基板支承部件的位置；以及成膜源，设在真空容器内，用于收纳成膜材料并将成膜材料粒子化而放出。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 以及 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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