[发明专利]一种镍钒溅射靶材的制备方法有效
| 申请号： | 201911164952.6 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN111004985B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 郭姗姗;曾浩;张巧霞;王焕焕;万小勇;陈畅;李勇军;陈明 | 申请（专利权）人： | 有研亿金新材料有限公司 |
| 主分类号： | C22F1/10 | 分类号： | C22F1/10;C22C19/03;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 黄家俊 |
| 地址： | 102200*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于金属材料加工和微电子材料制造技术领域的一种镍钒溅射靶材的制备方法。所述镍钒溅射靶材的制备方法，包括对镍钒铸锭依次进行1)热锻造、2)退火、3)冷变形和4)二次退火。所述镍钒溅射靶材中V的含量为7±0.7％，镍钒铸锭的纯度为99.9％‑99.995％。所得镍钒溅射靶材的晶粒度≤150μm，晶粒细小，分布均匀。本发明所述的镍钒溅射靶材，纯度高，在99.9％以上；组织结构致密无气孔，晶粒细小均匀，晶粒度≤150μm，无磁性，溅镀效率高，可广泛应用于电子元器件、通讯、太阳能光伏光电等行业。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于有研亿金新材料有限公司，未经有研亿金新材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911164952.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
