[发明专利]曝光装置用光源、曝光装置和抗蚀剂的曝光方法有效
| 申请号： | 201911172508.9 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN111308862B | 公开（公告）日： | 2023-02-24 |
| 发明（设计）人： | 池田富彦;井上智彦;乡田哲也;山下健一;渡边加名 | 申请（专利权）人： | 凤凰电机公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 张黎;龚敏 |
| 地址： | 日本国兵库*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置用光源，能配合抗蚀剂的特性，精确地照射需要的波长的光，另外，能将基准线以下的光量抑制在最小限度，进而，在对特性不同的别的抗蚀剂进行曝光时能使进行照射的光的波长适当变化。利用照射单波长光的多个光源组件(102)来构成曝光装置用光源(100)。而且，将从多个光源组件(102)照射的单波长光设为至少2种。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 用光 抗蚀剂 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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