[发明专利]掩膜版及滤光片在审
| 申请号： | 201911174507.8 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112859511A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 王红光;王菁晶;范刚洪;王群;徐广军 | 申请（专利权）人： | 上海仪电显示材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/54 | 分类号： | G03F1/54;G02F1/1335;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 唐嘉 |
| 地址： | 201108 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种掩膜版及滤光片，其中，所述掩膜版包括：基板；吸收层，位于所述基板上；多个多边形开口，位于所述吸收层内且暴露出所述基板，所述多边形开口具有多个角部，相邻所述多边形开口的其中一个所述角部相对设置。利用本发明实施例提供的掩膜版形成的滤光片上的间隔柱，可以降低相邻间隔柱之间的相连高度，提高间隔柱尺寸的测量准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 滤光 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
