[发明专利]一种瞬态电压抑制二极管及电子产品在审

专利信息
申请号: 201911185005.5 申请日: 2019-11-27
公开(公告)号: CN110854206A 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 李登辉;许成宗;刘凯哲 申请(专利权)人: 上海韦尔半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L21/329;H01L29/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市浦东新区自*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种瞬态电压抑制二极管及电子产品,包括:衬底,设置在所述衬底上方的外延层和设置在外延层内的阱区,所述阱区的掺杂类型和所述外延层的掺杂类型相反,其特征在于,所述阱区的外围设置有第一沟槽,所述第一沟槽的外围设置有第二沟槽,所述第一沟槽和所述第二沟槽贯穿所述外延层并延伸至所述衬底,所述第一沟槽填充有绝缘材料,所述第二沟槽填充有导电材料;本发明还公开了一种包括上述一种瞬态电压抑制二极管的电子产品。本发明公开的技术方案可以大幅增加芯片的有效面积,增强产品的浪涌能力。
搜索关键词: 一种 瞬态 电压 抑制 二极管 电子产品
【主权项】:
暂无信息
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