[发明专利]一种立式磁控溅射彩膜生产线装置在审

专利信息
申请号: 201911193776.9 申请日: 2019-11-28
公开(公告)号: CN110699657A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 冯宪轮;陈达舜 申请(专利权)人: 湖南华庆科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/02;C23C14/56
代理公司: 13131 石家庄知住优创知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 王丽巧
地址: 421000 湖南省衡阳市雁峰区岳*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种立式磁控溅射彩膜生产线装置,包括进片清洗室,进片清洗室的设置有GV1阀门,进片清洗室的右侧设置有GV2阀门,进片清洗室的顶部设置有第一离子清洗机,GV2阀门的右侧设置有前缓冲室,前缓冲室的顶部设置有两个真空抽气机组,前缓冲室的右侧设置有镀膜室,镀膜室的右侧设置有后缓冲室,后缓冲室的顶部设置有两个真空抽气机组,后缓冲室的右侧设置有GV3阀门,GV3阀门的右侧设置有出片室,出片室的顶部设置有第二离子清洗机,出片室的右侧设置有GV4阀门,GV4阀门的右侧设置有隔离间,该立式磁控溅射彩膜生产线装置,通过设置真空抽气系统的真空隔断采用独立门阀解决了难以真空生产的问题。
搜索关键词: 阀门 顶部设置 清洗室 进片 前缓冲室 出片室 缓冲室 真空抽气机组 离子清洗机 生产线装置 磁控溅射 镀膜室 彩膜 真空抽气系统 隔离间 隔断 门阀 生产
【主权项】:
1.一种立式磁控溅射彩膜生产线装置,包括进片清洗室(1),其特征在于:所述进片清洗室(1)的设置有GV1阀门(7),所述进片清洗室(1)的右侧设置有GV2阀门(8),所述进片清洗室(1)的顶部设置有第一离子清洗机(11),所述GV2阀门(8)的右侧设置有前缓冲室(2),所述前缓冲室(2)的顶部设置有两个真空抽气机组(12),所述前缓冲室(2)的右侧设置有镀膜室(3),所述镀膜室(3)的右侧设置有后缓冲室(4),所述后缓冲室(4)的顶部设置有两个真空抽气机组(12),所述后缓冲室(4)的右侧设置有GV3阀门(9),所述GV3阀门(9)的右侧设置有出片室(5),所述出片室(5)的顶部设置有第二离子清洗机(13),所述出片室(5)的右侧设置有GV4阀门(10),所述GV4阀门(10)的右侧设置有隔离间(6),所述隔离间(6)的内部设置有外回转架(14),所述GV1阀门(7)的左侧设置有料架(15)。/n
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