[发明专利]控制方法和等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201911203373.8 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111293024A | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 芳贺俊雄 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种控制方法和等离子体处理装置。在等离子体处理装置的控制方法中，所述等离子体处理装置包括：在腔室内对基片保持部施加高频电力的高频电源；设置在所述基片保持部与所述高频电源之间的匹配器；和利用高频电力从气体生成等离子体的等离子体生成部，所述控制方法包括：获取所述匹配器进行匹配时的输出阻抗的步骤；获取表示所述腔室的电特性的F参数的步骤；使用所述输出阻抗和所述F参数来计算谐波产生的程度的步骤；和根据所述谐波产生的程度来控制所述匹配器的阻抗的步骤。根据本发明，不使用传感器就能够调节匹配器的相对于谐波的阻抗。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 方法 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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