[发明专利]一种光学临近效应修正方法及装置有效
| 申请号： | 201911207414.0 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN112882348B | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学临近效应修正方法及装置，目标布局图形至少包括主体上凸起的线条和/或主体上凹陷的狭缝，光学临近效应修正方法包括：获取目标布局图形；将目标布局图形的边缘分割成若干个片段，并在片段上设置控制点；线条的线条端和/或狭缝的狭缝端被分为奇数个片段，控制点位于片段两个端点之间的区域；通过控制点对所述片段进行修正，获取修正图形和模拟轮廓；计算模拟轮廓与目标布局图形之间的偏差值；根据偏差值对控制点进行调整，获得调整后的修正图形。本发明提供了一种光学临近效应修正方法及装置，以对光学临近效应引起的光刻的图形畸变进行修正。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 临近 效应 修正 方法 装置 | ||
【主权项】：
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