[发明专利]缺陷确定方法、装置及系统有效
| 申请号： | 201911226014.4 | 申请日： | 2019-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN110927170B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 邓青华;黄进;王凤蕊;周小燕;石兆华;叶鑫;夏汉定;吴之青;邵婷;孙来喜;李青芝;黎维华 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 李娇 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种缺陷确定方法、装置以及系统，通过先确定待测元件表面是否存在参考缺陷点，若存在，则对所确定的参考缺陷点进行预设激光辐照处理，将预设激光辐照处理过程中荧光信号强度的降低量低于第一预设值且散射光信号强度的降低量低于第二预设值的参考缺陷点确定为待测元件表面的目标缺陷点，目标缺陷点即为元件表面低损伤阈值缺陷，有效地实现了对元件表面低损伤阈值缺陷的定位，有利于去除元件表面低损伤阈值缺陷，提高元件的激光损伤性能。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 确定 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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