[发明专利]一种高阻抗膜及其制备方法在审
申请号: | 201911243381.5 | 申请日: | 2019-12-06 |
公开(公告)号: | CN110885967A | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 夏伟;张兵;郑建军;张成金;姚仕军;方添志;赵帅 | 申请(专利权)人: | 天津美泰真空技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 天津合正知识产权代理有限公司 12229 | 代理人: | 马云云 |
地址: | 301609 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: |
本发明提供了一种高阻抗膜的制备方法,该方法包括如下步骤:采用磁控溅射法在玻璃基板上镀膜,所用靶材为含铟复合材料,溅射室的压强抽到1.5‑3.5×10 |
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搜索关键词: | 一种 阻抗 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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