[发明专利]一种高阻抗膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911243381.5 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN110885967A 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 夏伟;张兵;郑建军;张成金;姚仕军;方添志;赵帅 申请(专利权)人: 天津美泰真空技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08
代理公司: 天津合正知识产权代理有限公司 12229 代理人: 马云云
地址: 301609 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供了一种高阻抗膜的制备方法,该方法包括如下步骤:采用磁控溅射法在玻璃基板上镀膜,所用靶材为含铟复合材料,溅射室的压强抽到1.5‑3.5×10‑3Pa,工作气体为氩气,溅射压强为0.3‑1.0Pa。本发明所述的高阻抗膜具有较高的表面电阻值、较好的防静电效果和较好的抗干扰效果。
搜索关键词: 一种 阻抗 及其 制备 方法
【主权项】:
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