[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法有效
| 申请号： | 201911254686.6 | 申请日： | 2019-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN111324016B | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 八講学 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 李今子 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。提供有利于提高向基板转印图案的转印性能的曝光装置。提供曝光装置，使用包含第1波长域和第2波长域的多个波长域的光对基板进行曝光，其特征在于，具有：照明光学系统，用光对掩模进行照明；以及投影光学系统，将掩模的图案的像投影到基板，照明光学系统将包括包含至少第1波长域的光且第1波长域的光和第2波长域的光的强度比为第1强度比的第1强度分布和包含至少第2波长域的光且第1波长域的光和第2波长域的光的强度比为与第1强度比不同的第2强度比的第2强度分布的强度分布，以使该强度分布成为4次旋转对称的方式形成于照明光学系统的瞳面。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 物品 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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