[发明专利]一种石墨薄膜的制备方法在审
申请号: | 201911264433.7 | 申请日: | 2019-12-11 |
公开(公告)号: | CN111072022A | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 张燕辉;于广辉;陈志蓥;隋妍萍 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | C01B32/205 | 分类号: | C01B32/205;C01B32/21 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;贾允 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请提供一种石墨薄膜的制备方法,包括以下步骤:获取镍衬底;将固态碳源覆盖于镍衬底的上表面,固态碳源与镍衬底的上表面紧密接触;将已覆盖固态碳源的镍衬底放入无氧反应器中;对镍衬底进行加热使镍衬底的温度达到设定温度,设定温度的范围为500‑1500摄氏度;将镍衬底在设定温度保持设定时间;对镍衬底进行降温使镍衬底的温度降至室温;去除镍衬底的上表面残余的固态碳源,镍衬底的上表面和下表面均获得石墨薄膜。本申请提供的石墨薄膜的制备方法重复性高、简单易行,能够用于大面积高质量石墨薄膜的规模批量制备;且该方法能够利用固态碳源在镍衬底上下表面制备出大面积、高质量、层数可控、分布均匀且可转移的石墨薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911264433.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。