[发明专利]应用于半导体腔室的净化系统在审
| 申请号： | 201911273079.4 | 申请日： | 2019-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN111318151A | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 金建澔;具德滋 | 申请（专利权）人： | 夏泰鑫半导体（青岛）有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/78 | 分类号： | B01D53/78;F23G7/06;B01D53/32 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 彭辉剑;龚慧惠 |
| 地址： | 266000 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种应用于半导体腔室的净化系统，用于去除半导体腔室中产生的反应副产物，包括：泵，所述半导体腔室的出口和所述泵之间通过管接件连接，所述管接件内设有净化器，所述净化器的外壁贴合于所述管接件的内壁，所述出口与所述净化器之间的距离范围不超过50cm；所述净化器用于去除从所述出口流出的气体中带有的所述反应副产物，去除所述反应副产物后的气体从所述管接件流出至所述泵中，所述泵将所述气体排出。上述应用于半导体腔室的净化系统，能够去除从所述半导体腔室的所述出口流出的反应副产物，从而排出干净的气体。 | ||
| 搜索关键词： | 应用于 半导体 净化系统 | ||
【主权项】：
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