[发明专利]曝光方法和光刻装置有效
| 申请号： | 201911291957.5 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN111381454B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | S·布尔;P·格罗杰;金晥洙 | 申请（专利权）人： | 科尼亚克有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林彦 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及曝光方法和光刻装置。提供衬底(100)，在所述衬底(100)的主表面(110)上提供光敏层(200)。所述衬底(100)包括基底部分(101)和台面部分(102)。在基底部分(101)中，主表面(110)处于基底平面(105)中。台面部分(102)从基底平面(105)突出。辐射束(806)扫描光敏层(200)。由辐射束(806)施加到光敏层(200)的部分区域(230)的局部剂量包括基本剂量分量和修正剂量分量。所述修正剂量分量是所述部分区域(230)与过渡部(106)之间的距离的函数，并且至少部分地补偿由台面部分(102)与基底部分(101)之间的高度差引起的散焦对所述部分区域(230)中的关键尺寸的影响，其中所述过渡部(106)在基底部分(101)与台面部分(102)之间。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 光刻 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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