[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201911292410.7 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN111863580B | 公开（公告）日： | 2023-08-08 |
| 发明（设计）人： | 王泓胜 | 申请（专利权）人： | PSK有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 孙宝海 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种用于处理基板的装置。所述基板处理装置包括散射器，前述散射器安置于挡板上方且分离等离子体与杂质。前述散射器包括：具有第一开口的板，前述第一开口在自上方检视时形成于前述板的中心区域中；及碰撞区域，前述碰撞区域安置于前述第一开口上方以面向前述第一开口且与自等离子体产生单元供应的等离子体及杂质碰撞。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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