[发明专利]TFT阵列基板有效

专利信息
申请号: 201911312480.4 申请日: 2019-12-18
公开(公告)号: CN111129125B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 张伟彬 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L29/417 分类号: H01L29/417;H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请公开了一种TFT阵列基板,包括:柔性衬底、阻挡层、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、栅极、第二栅极绝缘层、第一层间绝缘层、第二层间绝缘层、源漏极、平坦化层、阳极、像素定义层以及像素支撑层;其中,所述源漏极包括上层源漏极以及下层源漏极,所述上层源漏极具有镂空结构,所述镂空结构与所述下层源漏极的上表面构成镂空区域,所述第二层间绝缘层填充所述镂空区域。本申请实施例所提供的TFT阵列基板,将源漏极设计成中间镂空的双层结构,使得下层源漏极与有源层的接触界面为半导体‑半导体接触,减小了有源层与源漏极之间的接触电阻,进一步提升了TFT阵列基板的电学性能。
搜索关键词: tft 阵列
【主权项】:
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