[发明专利]一种间隙光刻机构及其光刻方法有效
| 申请号： | 201911316488.8 | 申请日： | 2019-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN110928147B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 晏志鹏;张勋;赵凯锋;赵家辉;刘旭;赵恒;花肖航;高艳霞 | 申请（专利权）人： | 中航电测仪器股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 李鹏威 |
| 地址： | 723007 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种间隙光刻机构及其光刻方法，包括掩膜架，所述掩膜架为两端开口的中空结构，所述掩膜架的上端面用于放置掩膜版，所述掩膜架的下方设置有承片台，所述承片台的上端面用于放置柔性箔板，且用于放置柔性箔板的区域周围设置有若干限位柱，限位柱的上端面高出柔性箔板的光刻胶面，所述承片台能够进入所述掩膜架内；当所述承片台进入所述掩膜架内，且限位柱的上端面与掩膜版的药膜面接触时，掩膜版的药膜面与柔性箔板的光刻胶面之间具有间隙。本发明在光刻时掩膜版的药膜面与柔性箔板的光刻胶面能够形成固定的间隙，避免了两者的接触，从而提高了掩膜版的使用率，并大幅改善产品的外观质量缺陷，提高了产品的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 间隙 光刻 机构 及其 方法 | ||
【主权项】：
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