[发明专利]基板处理设备在审
| 申请号： | 201911345202.9 | 申请日： | 2019-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112768334A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 刘光星;姜正贤;姜成勳 | 申请（专利权）人： | PSK有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 孙宝海 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明关于一种基板处理设备包括：外壳，前述外壳在内部具有处理空间且具有穿过前述外壳形成的排气孔；支撑单元，其支撑前述基板于前述处理空间中；及排气单元，前述排气单元设置于前述外壳的底部处且使前述处理空间排气。前述排气单元包括：本体，前述本体在内部具有缓冲空间且具有穿过前述本体形成的通孔，前述缓冲空间连接至前述处理空间；及排气管道，前述排气管道排出前述缓冲空间中的气体。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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