[发明专利]一种新型5寸掩模版贴膜工具在审
申请号: | 201911347730.8 | 申请日: | 2019-12-24 |
公开(公告)号: | CN111025843A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 薛文卿;华卫群;季书凤;杨长华;张月圆 | 申请(专利权)人: | 无锡中微掩模电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62;G03F7/20 |
代理公司: | 连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人: | 谷金颖 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种新型5寸掩模版贴膜工具,包括中央镂空的主体支架、定位兼导向块和压力杆,定位兼导向块分布于中央镂空的主体支架的四周,压力杆设置在主体支架四角上;所述压力杆分别与5寸掩模版四个角位置对应。主体支架的中央镂处可以观察贴膜工具的4个压力杆和5寸掩模版四个角位置是否对应。本发明设计科学合理,操作简单方便,本发明解决了人工使用四根手指来按压掩模基板,取而代之地使用四根压力杆可以在掩模基板四角压力均匀,且不会因手指按压留下痕迹。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 模版 工具 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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