[发明专利]阵列基板及其制作方法有效
| 申请号： | 201911370884.9 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN110941126B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | 余佳佳 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 吕姝娟 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提出了一种阵列基板及其制作方法，该包括衬底、位于该衬底上的驱动电路层、位于该驱动电路层上的像素电极层，该像素电极层通过第一过孔与该驱动电路层电连接；该像素电极层还包括位于该第一过孔内的至少一第二过孔，该第二过孔使部分该驱动电路层裸露。本申请通过在第一过孔内形成至少一个第二过孔，使得残留在该第一过孔内的含氟气体从该第二过孔内溢出，避免了像素电极层出现气泡的技术问题，提高了像素电极层与源/漏极的接触效果。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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