[发明专利]可旋转的缓冲取放装置在审
| 申请号： | 201911379599.3 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN113053792A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 陈建名;吕孟恭;黄铭源 | 申请（专利权）人： | 致茂电子（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 215129 江苏省苏州市苏州高*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种可旋转的缓冲取放装置，主要包括：电动机、本体、缓冲模块以及取放模块；其中，缓冲模块配置于本体的第一腔室内，且缓冲模块的旋转轴承连接于电动机的驱动轴，并通过旋转带动件耦接至从动轴套；旋转带动件受旋转轴承带动而驱动从动轴套转动，并允许旋转轴承与从动轴套间轴向移动；缓冲弹簧设置于旋转轴承与从动轴套之间；又，取放模块的第一密封环与第二密封环固定于本体上并分设于第二腔室的两端；且取放轴杆穿经第一密封环与第二密封环，取放轴杆的一端连接至从动轴套，另一端开设有吸附孔，其连通至负压源。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 缓冲 装置 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
